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maskman木蟲 (正式寫手)
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[求助]
怎樣降低ITO導(dǎo)電玻璃表面粗糙度，或者怎樣處理表面可以實(shí)現(xiàn)EBL刻蝕 已有2人參與
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| 我想在ITO表面旋涂PMMA膠進(jìn)行EBL刻蝕，但是由于目前的ITO表面粗糙度較大，所以不易進(jìn)行刻蝕，請(qǐng)問(wèn)各位有沒(méi)有前輩嘗試過(guò)提高表面質(zhì)量的方法，希望分享一下，不甚感激，若能提供得到表面質(zhì)量較好的ITO的渠道，也非常感謝 |
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要想降低表面粗糙度有幾個(gè)辦法：機(jī)械拋光、酸堿出力、等離子處理以及幾種方法的組合�？蓞⒖嘉墨I(xiàn)： http://www.docin.com/p-174962.html&pageType=previewUser |
2樓2014-02-10 17:17:59
gxytju2008
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| 武漢格奧買的，電阻率比較低的會(huì)相對(duì)平一點(diǎn)，做過(guò)紫外光刻，沒(méi)問(wèn)題，電子束刻蝕確實(shí)難度大點(diǎn)，不過(guò)也做得成，就是形狀肯定沒(méi)有硅片完美了，更好的可以考慮美國(guó)delta的，平整度確實(shí)更好，而且均勻，不過(guò)實(shí)在太貴了，我們后來(lái)用不起了 |
3樓2014-02-10 21:47:27
maskman
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10樓2016-01-05 21:57:53
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