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納米制備藝術(shù)（16）：硅尖列陣制備工藝（RIE on SiO2層） 已有3人參與
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本木蟲鄭重聲明：本人在小木蟲網(wǎng)站上展示的所有成果都是Giantslug本人自己的工作。 第二步：用光刻膠立柱為掩膜，在等離子體下對SiO2薄膜腐蝕，去掉SiO2層。形成SiO2+剩余光刻膠的掩膜。照片拍得不夠清晰。SiO2薄膜不很清楚。 |
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2樓2014-02-16 11:19:12
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4樓2014-04-10 21:09:32
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