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 Fig. 1. Schematic of Ni/n-Si photoanode. (A) Structure of 2-nm Ni-coated n-Si anode (top) and proposed approximate energy band diagram (bottom). The ultrathin Ni/NiOx and the electrolyte form an effective layer interfacing with Si, affording a high built-in potential fs and photovoltage. (B) Structure of 5- to 20-nm Ni-coated n-Si anode (top) and a typical Ni/n-Si Schottky barrier formed between 5- to 20-nm Ni and n-Si, with built-in potential fs and photovoltage lower than the 2-nm Ni/n-Si case in (A). 這個Ni層變厚了，費米能級為什么變高了，作者也沒有給出證據(jù)和解釋。 文章中說內建電場可以使onset potential提前，但是肖特基能壘又使之后移，有沒有互相矛盾。 原文鏈接： http://www.sciencemag.org/content/342/6160/836.full[ Last edited by knightxx on 2014-2-22 at 16:20 ] |
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2014-02-22 16:14:48, 1.16 M
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4樓2014-02-26 20:00:36
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