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[交流]
關(guān)于鋁合金在NaCl溶液中的交流阻抗譜分析
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小蟲最近做了一些鋁合金在3.5% NaCl溶液里的交流阻抗譜,也看了不少文獻(xiàn),但是發(fā)現(xiàn)看得多了反而更糊涂了,有些問題不是很明白,所以開個貼,既是向各位大牛們求助,也想跟蟲友們交流交流。鋁合金在鹽水里的交流阻抗可能是兩個半圓的居多,典型的模擬點蝕的等效電路也有,當(dāng)然感抗或者瓦爾堡阻抗的出現(xiàn)也是有的。很多人用R1(Q(R2(QR3)))來擬合,我的結(jié)果也基本是這樣的,但是在分析具體的原件對應(yīng)的物理意義的時候問題就出來了。R1不用說了。對于R2和R3,有不同的理解。 最多的說法當(dāng)然是R2是氧化膜電阻,R3是電荷轉(zhuǎn)移電阻。按這個理解的話,Q-R3就是對應(yīng)的金屬表面的雙電層了,但是雙電層電容的大小不是應(yīng)該通常在100微法以內(nèi)嗎?好多文獻(xiàn)的Q-Rct中模擬的結(jié)果都是好幾百微法甚至超過500微法,那么這組原件對應(yīng)金屬/溶液界面的雙電層是不是有問題? 另一種解釋,R2是電荷轉(zhuǎn)移電阻,R3是傳質(zhì)過程的電阻。這種解釋不知道各位認(rèn)為對于鋁合金這類可鈍化的金屬是不是適用呢?或者說如果鈍化膜的阻抗太小,可以包括在R2里面?還有就是這樣解釋的話,那么整個過程的極化電阻是多少?我印象中傳質(zhì)過程的電阻也是極化電阻的一部分啊,是不是R2+R3? 當(dāng)然還有別的解釋,有文獻(xiàn)直接將R2說成是氧化膜的極化電阻,R3說成是局部點蝕的電阻,不知道這種說法是不是合理啊, 感覺畫不出來合理的電路啊。 我水平一般,很多東西不懂,在此請教各位了! |
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