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[求助]
遇到一難題，光刻過程中的精度問題 已有2人參與
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本人現(xiàn)在從事非晶薄膜研究，現(xiàn)希望在薄膜表面選擇性的涂覆光刻膠，即在特定的地方有光刻膠，在其他的地方?jīng)]有。這就需要在曝光過程中，使掩膜板上透光的區(qū)域精確對齊薄膜上需要覆光刻膠的區(qū)域（我用的是負(fù)膠）。需要涂覆光刻膠的區(qū)域大約200微米。在光刻過程中，薄膜置于掩膜板下方，中間隔了2到3厘米，使得對齊很難進行。 請教各位有沒有好一點的方法能實現(xiàn)對齊。 |
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已經(jīng)有10人回復(fù)
2樓2014-02-27 13:06:54
3樓2014-03-10 21:55:57
蚊子咬了豬豬
銅蟲 (小有名氣)
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4樓2016-12-11 13:32:08
5樓2016-12-11 14:20:38
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6樓2016-12-11 16:21:01
yswyx 
專家顧問 (著名寫手)
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7樓2017-01-22 15:19:51
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