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2008034071金蟲 (小有名氣)
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[求助]
nife XRD測(cè)試中沒有111峰 已有2人參與
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在硅片上，用磁控濺射的沉積的NiFe膜 厚度20nm左右吧 為什么測(cè)不出（111）峰？ 本來是實(shí)驗(yàn)Ta緩沖層厚度對(duì)鎳鐵(111)影響的，用來比較對(duì)111晶向的誘導(dǎo)作用。 20nm可能有點(diǎn)薄。但是如果做厚了會(huì)不會(huì)影響nife111峰的比較。 順便求一下，AMR測(cè)試方法啊 [ Last edited by 2008034071 on 2014-3-13 at 15:46 ] |
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2樓2014-03-13 19:58:18
flielie
新蟲 (初入文壇)
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3樓2017-05-22 22:10:45
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