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[求助]
關(guān)于MoS2的XRD圖譜分析
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我用水熱法制備MoS2層狀材料，在水熱之前，將上次制備MoS2使用過(guò)的聚四氟乙烯高壓反應(yīng)釜在濃HNO3中浸泡一天，去除殘留的在內(nèi)壁的MoS2殘留物，之后用蒸餾水反復(fù)沖洗，內(nèi)壁肉眼目測(cè)很干凈，但是能夠聞到淡淡的一些HNO3的味道；沒(méi)有顧慮這個(gè)殘留的HNO3會(huì)不會(huì)對(duì)實(shí)驗(yàn)產(chǎn)生影響，于是繼續(xù)使用；但是產(chǎn)物經(jīng)XRD分析，不是純的MoS2，出現(xiàn)一些雜相，之前制備的都是很純的MoS2，就是這次用硝酸浸泡聚四氟乙烯高壓反應(yīng)釜之后出現(xiàn)這個(gè)問(wèn)題，我懷疑XRD的10度左右的衍射峰是不是MoO3的衍射峰，求各位大神指教！ 1.jpg |
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洛羽悠悠
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3樓2019-12-10 21:47:30
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