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氧化鋅薄膜（002）峰位的缺失之謎？ 已有2人參與
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在（111）的硅片上制備氧化鋅薄膜，傳統(tǒng)文獻(xiàn)上無一不例外都是（002）擇優(yōu)取向生長，為什么我襯底在25℃，150℃，300℃，450℃，600℃下制備（陶瓷氧化鋅靶材）薄膜，（100），（101）峰強(qiáng)度很高，而（002）基本上沒有呢？700℃退火之后只有襯底在150℃制備的薄膜出現(xiàn)了（002）峰，感到很疑惑？請高人指點(diǎn) 13.jpg |
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lx520lx
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1，氧化鋅薄膜并非清一色的（002）擇優(yōu)取向，對于薄膜生長致密的時候（002）擇優(yōu)取向非常容易出現(xiàn)，但是其他擇優(yōu)取向也并不是沒有，以前見過一篇文獻(xiàn)報道sol-gel法控制不同晶面的擇優(yōu)取向，比如說，你這個和標(biāo)準(zhǔn)卡片比對會發(fā)現(xiàn)有點(diǎn)（100）生長取向的增強(qiáng) 2，我沒有用物理方法做過所以不清楚，但對于你所給的XRD圖譜來說，其他衍射峰都對著不錯，說明是纖鋅礦氧化鋅錯不了，而且（002）并沒有消失，仍然存在 3，你做的氧化鋅的粒徑應(yīng)該不大，因而衍射峰發(fā)生了明顯的寬化，那么你所說的（002）缺失，其實(shí)是由于粒徑比較小從而發(fā)生衍射峰寬化，以及（100）晶面有一些擇優(yōu)取向，使得（002）和（101）發(fā)生了重疊，而（002）本身強(qiáng)度比較低，使得看上去，（002）峰缺失了 |
2樓2015-02-12 23:25:41
lx520lx
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3樓2015-02-13 00:19:14
4樓2015-02-13 11:39:39
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