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yuanxin5254金蟲 (正式寫手)
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[交流]
關(guān)于光刻曝光能量和焦面的問(wèn)題 已有1人參與
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大家在做光刻之間是不是要找好曝光能量和焦深呢，大家都是用什么方法找出這兩個(gè)參數(shù)的，一起交流一下哈。 對(duì)了，不知大家都用的什么廠家的光刻機(jī)呢，有資料一起共享哈。 |
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yswyx 
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小木蟲: 金幣+0.5, 給個(gè)紅包，謝謝回帖
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你用的是stepper？ 曝光能量的抓取一般都采用在標(biāo)準(zhǔn)值周圍做一堆實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)點(diǎn)，也就是同一片wafer用不同曝光劑量在不同位置曝光，其他工藝條件比如前烘/顯影之類的都是完全一致的，然后再通過(guò)顯微鏡觀察抓出最佳的曝光劑量。不同光刻機(jī)的實(shí)現(xiàn)方法不同。 不是簡(jiǎn)單的曝光能量的問(wèn)題，實(shí)際上牽扯的是工藝窗口，越復(fù)雜的工藝，工藝窗口的維數(shù)越多，不僅僅是曝光能量的問(wèn)題。 |
2樓2014-04-22 14:27:03
yuanxin5254
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3樓2014-04-22 15:50:33
yswyx
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4樓2014-04-28 16:23:26
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