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[交流]
為什么我用MS模擬出的硒化鉛（PbSe）禁帶寬度比理論值大很多？
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各位大俠，小弟最近用MS模擬硒化鉛（PbSe）的能帶結(jié)構(gòu)，得到的禁帶寬度大約為0.45~0.46eV，遠(yuǎn)大于理論值0.27~0.28eV。我看到論壇里很多貼子都說(shuō)MS模擬會(huì)低估禁帶寬度，為什么我的會(huì)大出這么多呢？望各位大俠指教，謝謝！ 具體模擬過(guò)程如下： (1)導(dǎo)入3D模型：從ICSD導(dǎo)入PbSe的.cif文件(總共27種我基本都試過(guò)，結(jié)果相差不大)； (2)結(jié)構(gòu)優(yōu)化：quality選fine；functional選GGA+PBE；其他設(shè)置為默認(rèn)值； (3)能帶計(jì)算：結(jié)構(gòu)優(yōu)化完成后，直接進(jìn)行能帶結(jié)構(gòu)計(jì)算，參數(shù)設(shè)置與結(jié)構(gòu)優(yōu)化相同（除task選properties；properties選band structure 和 density of states）； (4)分析：analysis。 具體參數(shù)設(shè)置如圖所示： 結(jié)構(gòu)優(yōu)化設(shè)置(1).png 結(jié)構(gòu)優(yōu)化設(shè)置(2).png 結(jié)構(gòu)優(yōu)化設(shè)置(3).png 結(jié)構(gòu)優(yōu)化設(shè)置(4).png 截圖06.png |
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snowbridge
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5樓2014-05-04 16:50:06
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