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龍?bào)J將軍鐵蟲 (小有名氣)
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[求助]
su8光刻 已有2人參與
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我用的是su8 2075 為什么我所形成的圓柱體 上大下小 底部看上去挺圓的 但頂部有多余的部分怎么也顯影不掉 參數(shù)：780rmp 40秒 4240rmp 90秒 前烘 65℃ 3min 95℃ 9min 曝光 100秒 后烘 65℃ 2min 94℃ 7min 膜厚大概40微米 掩膜版是直徑為20微米的圓形陣列 基底是普通玻璃 我也試過(guò)曝光30秒，結(jié)果相似 但與基底的結(jié)合性更差 搜狗截圖20140515191250.jpg |
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yswyx 
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曝光不足一般是會(huì)有T-top，但下面會(huì)小很多，比mask上面肯定要小，而且容易倒伏。 你這個(gè)T-top底部尺寸沒(méi)有小，說(shuō)明曝光劑量足夠了。那么T-top的形成應(yīng)該屬于曝光過(guò)量，尤其是玻璃襯底的底部反射會(huì)很強(qiáng)烈。另外，可以看到光刻膠底部有黑色陰影，那個(gè)也屬于沒(méi)顯影掉的部分，可能底部也曝光過(guò)量了。 SU8的曝光劑量并不高，至少我使用的是這樣的。像我們的膠如果在40um的厚度的話，曝光劑量一般在150~200mJ/cm2之間。對(duì)于一般的進(jìn)口光刻機(jī)，ghi三個(gè)譜線光強(qiáng)疊加一般是幾十mW，曝光時(shí)間應(yīng)該是在10秒以內(nèi)。國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的話時(shí)間可能會(huì)翻番。 所以我建議在10s周圍做一個(gè)分區(qū)域的曝光劑量實(shí)驗(yàn)。 |
6樓2014-05-17 15:46:21
tsung
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2樓2014-05-15 20:57:33
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3樓2014-05-16 10:04:26
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4樓2014-05-16 14:41:36
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5樓2014-05-16 16:00:25
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7樓2014-05-18 15:09:27
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8樓2014-05-19 09:47:55
supernatural: 屏蔽內(nèi)容, 不允許在帖子里留下聯(lián)系方式，如需聯(lián)系，請(qǐng)站內(nèi)短消息聯(lián)系 2014-05-19 22:02:17
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9樓2014-05-19 14:15:09
10樓2014-05-19 16:43:19
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