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| 利用濺射方法制備了AlN薄膜,XRD分析發(fā)現(xiàn)是fcc-AlN的衍射峰薄膜,表面XPS分析發(fā)現(xiàn)在72eV的位置有Al的峰出現(xiàn),而對(duì)表面用Ar+離子轟擊后這個(gè)Al的峰就沒(méi)了。我想知道Al在薄膜中是怎么存在的?要是存在于晶格間隙,那就是Al-N鍵了,應(yīng)該不會(huì)只是Al。∈谴嬖谟诰Яig隙嗎?會(huì)不會(huì)存在于晶粒中而還沒(méi)有進(jìn)入晶格或者是晶格間隙呢?因?yàn)閷?duì)晶體不是很了解,請(qǐng)大家?guī)兔Ψ治鲆幌,謝謝! |

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