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xb490284223金蟲(chóng) (正式寫手)
蘑菇頭
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[求助]
密封艙濃度足跡法 求解方程問(wèn)題
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各位大神，對(duì)于下圖的足跡法，我編寫了如下的程序，但計(jì)算結(jié)果不滿意，求各位幫忙。程序是 二分法求根的。 Cequ=1.5; slope=-0.21/3600; Intercept=-1.75; hm=0.0025; L=0.0038; B=0.33333; a=pi/2+0.00000001; b=pi*3/2-0.000000001; m=1; while(abs(m)>10^-10) q1=(a+b)/2; Dm=-slope*L*L/(q1*q1); %%求Dm Bim=hm*L/Dm; %%求Bim K=q1/((q1*q1/Bim-B)*tan(q1)); %%求K A1=(K*B-q1*q1*K/Bim+1)*cos(q1)-(1+2*K/Bim)*q1*sin(q1); m=log(-2*(K*B+1)*sin(q1)/q1/A1)-Intercept; Cm0=Cequ*K+1/B; %%求Cm0 if(m>0) a=q1; else b=q1; end if(abs(m)<10^-10) q1end=q1; Kend=K; Dmend=Dm; Cm0end=Cm0; m=abs(m); break; end end disp('q1是') q1end disp('初始散發(fā)濃度C0是') Cm0end disp('分離系數(shù)K是') Kend disp('擴(kuò)散系數(shù)是') Dmend disp('m是') m 密封艙濃度足跡法流程圖.png |
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