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范二青年金蟲 (著名寫手)
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[求助]
已有CIF的晶體Rietveld精修疑問 已有4人參與
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大家好! 我做的是藥物共晶,最近在 晶體工程通訊 投了篇文章,審稿人說得要補(bǔ)充Rietveld精修 模擬圖和實(shí)驗(yàn)XRD圖(The authors should provide the Rietveld refined simulated and experimental PXRD patterns of the salts.) 現(xiàn)在的疑問是:都已經(jīng)有了晶體的cif了,為什么還得要進(jìn)行Rietveld精修呢。而且一旦進(jìn)行Rietveld精修,精修后的晶體結(jié)構(gòu)和cif里的晶體結(jié)構(gòu)差異很大,明顯精修后的晶體結(jié)構(gòu)就不對了。而且得到的殘差值大,圖也難看。 問問看大家有沒有遇到過類似的狀況呢?能夠給出建議就更好啦! 先謝謝了! |

至尊木蟲 (職業(yè)作家)

金蟲 (著名寫手)

至尊木蟲 (職業(yè)作家)
| 不見得,要是峰位有偏差,要求Profile fitting是合理的。其實(shí)要證明純相,最起碼應(yīng)該能夠指標(biāo)化,而現(xiàn)在指標(biāo)化都要profile fitting。可能審稿人以為你的化合物有多重polymorph的可能性很大,這樣的話,就不是半吊子,而是很嚴(yán)謹(jǐn)?shù)膶I(yè)人士,建議你慎重對待。 |

至尊木蟲 (職業(yè)作家)

新蟲 (文壇精英)
頭大不怕雨淋
| 審稿人的意思應(yīng)該是把粉末XRD按單晶解析的結(jié)構(gòu)給精修一下;蛟S是覺得你提供的粉末XRD圖的偏差看起來太大。其實(shí)峰位置不應(yīng)該有很大偏差的,零點(diǎn)偏移在Rietveld精修中可以消除。 |

金蟲 (著名寫手)

木蟲 (正式寫手)
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