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[求助]
在小槽里刻蝕硅片冒氣泡阻止反應(yīng)能有什么方法除氣泡嗎 已有4人參與
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各位大神，我想在內(nèi)直徑只有3.4厘米的聚四氟乙烯槽中金屬輔助刻蝕硅片（實驗需要），但由于反應(yīng)產(chǎn)生大量氣泡聚集在硅片上方阻止了反應(yīng)。所以在很長的反應(yīng)過程中需要時不時用滴管向槽中吸液吹液，非常麻煩。能不能用其他方法或者自制什么裝置可以實現(xiàn)自動去除氣泡呢？求助啊，一整天對著HF很傷啊 ，而且反應(yīng)過程不好控制~各位拜托了，幫忙想個辦法�。� |
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yswyx 
專家顧問 (著名寫手)
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專家經(jīng)驗: +651 - MN-EPI: 8
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- 貴賓: 0.204
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- 帖子: 2705
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- 注冊: 2007-10-30
- 性別: GG
- 專業(yè): 半導(dǎo)體微納機電器件與系統(tǒng)
- 管轄: 微米和納米
5樓2014-09-06 00:42:03
reninhat
鐵桿木蟲 (正式寫手)
- 應(yīng)助: 80 (初中生)
- 金幣: 6133.8
- 散金: 117
- 紅花: 5
- 帖子: 332
- 在線: 428.4小時
- 蟲號: 2238571
- 注冊: 2013-01-13
- 專業(yè): 半導(dǎo)體微納機電器件與系統(tǒng)
2樓2014-09-03 09:53:03
★
感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
xctdyl1992: 金幣+1, ★有幫助, o 2014-09-05 16:05:48
感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
xctdyl1992: 金幣+1, ★有幫助, o 2014-09-05 16:05:48
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3樓2014-09-03 13:46:56
4樓2014-09-05 16:05:52
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