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[交流]
Si化學(xué)清洗以及緩沖液的原理與摻雜量的關(guān)系~~~ 已有4人參與
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最近處理了一些樣品，結(jié)果不是很理想。 我們清洗Si片的手順是 先用超純水洗一下， 然后 濃硫酸；雙氧水—4；1 清洗3min 超純水洗凈 再一次 濃硫酸；雙氧水—4；1 清洗3min 再次洗凈 10min超純水洗凈 2%HF酸 10秒 洗凈 ------------------------------------------------ 以上貌似叫做SPM洗凈，大家都這么做屬于常規(guī)手順。 以下是我特別需要制備原子級別平坦度需要的40%NH4F，已經(jīng)盡力去掉溶存氧氣了。 問題在于這里，好多論文里沒有詳細(xì)的提到用的什么規(guī)格的Si片，我使用的是CZ法制的 N型 磷摻雜 1-5歐/cm，摻雜量很大 是否對etch 有很大影響呢？直覺告訴我影響應(yīng)該很大很大滴~~~ 還有就是etch 的原理 以及SPM洗凈的原理~~~不是很清楚。有什么文獻(xiàn)可以分享下嘛~~~~萬分感激下啦~~~~ PS 軟件跟設(shè)備的單位不太一樣 XY范圍 1V＝15.0nm 高度Z 1V＝1.82nm Si100面 SPM洗凈后 NH4F 6min處理。RMS是4.1左右 Si111面 SPM洗凈后 NH4F 6min處理。RMS是0.76左右 |
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