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Brilliantly捐助貴賓 (正式寫手)
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電子步數(shù)和離子步數(shù)
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| 用VASP設(shè)置參數(shù)的時候會考慮NSW和NELM這兩個值，一個是最大的離子步數(shù)，另一個是最大的電子步數(shù)，那么這兩個步數(shù)具體優(yōu)化的過程是怎么樣的呢？兩個參數(shù)的設(shè)置有什么關(guān)系呢 |
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2樓2014-10-05 12:06:22
卡開發(fā)發(fā)
專家顧問 (著名寫手)
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專家經(jīng)驗(yàn): +224 - 1ST強(qiáng)帖: 2
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- 專業(yè): 金屬材料的磨損與磨蝕
- 管轄: 第一性原理
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一般NELM按照默認(rèn)即可，兩者沒必然聯(lián)系。 結(jié)構(gòu)弛豫過程本來就是由兩個內(nèi)外圈自洽構(gòu)成： 內(nèi)圈是電子步自洽的過程，是在當(dāng)前體系結(jié)構(gòu)上求解Kohn-沈方程，用一組展開基展開體系（贗）波函數(shù)，一般通過自洽展開系數(shù)、電荷密度、能量等，從而得到當(dāng)前結(jié)構(gòu)的（贗）波函數(shù)、本征值及總能。 外圈是結(jié)構(gòu)弛豫的過程（離子步），由電子自洽（如上述）得到能量及其導(dǎo)數(shù)（力），來分配原子的移動，得到新的結(jié)構(gòu)并完成該結(jié)構(gòu)的電子步自洽。。。。。。直至能量、力、（下一步分配給體系原子的）位移、晶格的應(yīng)力等自洽。 說的有點(diǎn)外行，望其他前輩多指正。 |
3樓2014-10-05 15:11:47
Brilliantly
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4樓2014-10-06 10:57:56
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