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[交流]
【求助】請教個關(guān)于MS中reflex模塊擬合XRD譜圖的問題？ 已有1人參與
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我采用reflex模塊進行rietveld精修一個二肽分子的晶體結(jié)構(gòu)，發(fā)現(xiàn)如果不精修原子占有率的話，Rwp只能達到35%,而精修所有的原子的占有率化，可以達到15%，大家知道這個原子占有率是什么意義嗎，可不可以全部精修， 謝謝！ 另外，一般reflex中的rietveld精修的Rwp達到多低就算差不多呢？ [ Last edited by hanbao on 2008-5-1 at 00:32 ] |
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2樓2011-03-25 14:23:34
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