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金屬氫化物表面摻雜
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我做金屬氫化物摻雜,用castep算占據(jù)能是5.43eV,文獻(xiàn)中用VASP算是1.86eV 請問這個正常嗎? 我的計算步驟是: geometry optimization MgH2(primitive cell), make P1, cleave surface, slab vcacuum, supercell, 固定表面兩層以下的原子, 然后geometry opt the slab, 在表面間隙添加元素 Cu, 然后做geometry opt。 求大神指點啊,剛開始做這個 ![]() |
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