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贗電容循環(huán)性能差，求原因分析~~ 已有3人參與
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我做的是Ni復合材料,用三電極體系在藍電上做恒流充放電實驗~~~用汞氧化汞電極做參比，2000周以后的容量的保持率只有34%，非常的低~~~ 不知道什么原因，求指導！！  |
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肯定是復合金屬的結(jié)構(gòu)不能得到有效保持 其實，有很多文獻，尤其是那些循環(huán)性能特別好的文獻，光看他們的表征，其實并不能很好的解釋為什么循環(huán)性能如此之好，在更微觀的形貌下，這些復合金屬有兩種情況可以使得循環(huán)性能非常好：（肯定不只這兩種，但我所知就這兩種） 1、沒有碳材料或其它載體的情況下，和金屬的結(jié)晶程度有非常大的關(guān)系，有的結(jié)的好，循環(huán)好，但有的結(jié)的差，電容好 2、更普遍的用碳材料負載時，如果在納米級的金屬顆�；蛘咂渌蚊脖砻嬗写笥�1層并且小于10層的石墨層包覆，那么循環(huán)性能可以得到質(zhì)的提升 關(guān)于循環(huán)性能討論非常詳細的文獻較少，有一篇JACS關(guān)于NiF的文章，他在1萬圈達到200%多，其實這個數(shù)值可以隨便通過碳纖維內(nèi)包裹Ni來得到，200%其實很普通 如果您的材料在區(qū)區(qū)幾千圈之內(nèi)保持率低于90%，那么可以說這種材料提升空間還非常大， |
8樓2015-01-08 12:47:49
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