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小達(dá)達(dá)達(dá)銀蟲 (正式寫手)
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[求助]
想在光刻完的半導(dǎo)體上沉積2μm左右厚的Ni/Au薄膜，還有什么辦法呢？ 已有6人參與
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| 想在光刻完的半導(dǎo)體上沉積2μm左右厚的Ni/Au薄膜，使用濺射的厚度不會很厚（一般200nm左右），還有什么辦法呢？ |
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2樓2015-01-09 21:41:15
caoxiafei
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3樓2015-01-12 08:48:41
4樓2015-01-12 13:49:05
小達(dá)達(dá)達(dá)
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5樓2015-01-12 15:56:02
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6樓2015-01-12 15:57:39
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7樓2015-01-12 15:58:03
caoxiafei
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8樓2015-01-12 20:24:35
li2005235
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【答案】應(yīng)助回帖
| 這得看你的光刻膠是多厚的，依據(jù)情況來用剝離法。你如果想沉積2um厚的金屬薄膜，一般情況下光刻膠的厚度至少在3um。其實(shí)，我們在用剝離法做圖形時(shí)，光刻膠的厚度應(yīng)該在你沉積薄膜厚度的3倍。這樣剝離的圖形會好很多，尤其是對于線寬比較小的情況。但是，我以前做過光刻膠是1.5um，剝離1um的Ni膜，剝離的效果還是可以的。所以，你可以試一下，盡量讓光刻膠的厚度在3um以上。比如用AZ5218一類的，AZ5218光刻膠厚度可以在3um左右，你得試一下，我感覺是可以的。有什么問題可以問我，我對這個(gè)有些了解。 |
9樓2015-01-27 22:05:58
穿越千年: 屏蔽內(nèi)容, 違規(guī)存檔, 本版不支持廣告宣傳，感謝您的應(yīng)助，請私下pm樓主相關(guān)信息 2015-03-06 17:56:33
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10樓2015-03-05 23:32:26
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