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gloomygirl-1木蟲 (小有名氣)
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[求助]
SiO2材料在600度高溫煅燒5h后,F(xiàn)TIR光譜中仍然有羥基OH的峰,為什么? 已有2人參與
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用3-巰丙基三甲氧基硅烷(MPTMS)合成一種SiO2材料后,進行表征,600度高溫煅燒5h后,紅外光譜中仍然有羥基OH 和巰基SH 的峰,怎么解釋? 這兩個基團一定會被煅燒掉嗎?十分感謝各位! |
銅蟲 (小有名氣)
木蟲 (小有名氣)
銅蟲 (小有名氣)

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[考研]
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pk3725069 2026-03-19 | 14/700 |
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[考研] 070300,一志愿北航320求調劑 +3 | Jerry0216 2026-03-22 | 5/250 |
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[考研] 287求調劑 +8 | 晨昏線與星海 2026-03-19 | 9/450 |
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[基金申請]
學校已經(jīng)提交到NSFC,還能修改嗎?
40+4
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babangida 2026-03-19 | 9/450 |
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