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利用磁控濺射在二氧化硅表面沉積金電極的問題 已有2人參與
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各位蟲友們大家好，在下最近正在進(jìn)行傳感器制作的相關(guān)實(shí)驗(yàn)，遇到了以下問題，勞煩各位蟲友給指點(diǎn)迷經(jīng)，非常感謝！ 我的實(shí)驗(yàn)過程是：一次光刻,IBE,二次光刻，沉積金電極，關(guān)鍵在于金電極要沉積在二氧化硅表面，兩者的粘附性很差，剝離過后金馬上就掉沒。所以嘗試用Ti作過渡層，30nm左右，結(jié)果粘附性依然不樂觀，剝離雖然不掉但卻經(jīng)不起焊接，焊接時電極會掉落。 請問大家是否遇到過此類情況，或者有什么好的建議嗎？聽說用Cr作過渡層好一些？那過渡層的厚度多少合適呢？磁控濺射時沉積溫度和壓力多少合適呢？（我常溫，1.4Pa，80w） 再次感謝！ |
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 薄膜制備與特性 |
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perry_ping 
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- 專業(yè): 無機(jī)合成和制備化學(xué)
4樓2016-02-26 09:44:09
perry_ping
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2樓2015-07-28 13:38:04
3樓2015-08-19 21:31:03
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