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[交流]
磁控濺射半導(dǎo)體鍍電極，漏電流較大 已有1人參與
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如題，現(xiàn)在使用磁控濺射為高阻半導(dǎo)體制備電極 工藝如下：射頻濺射Cr 25W,0.4Pa，12A 再制備200nm的Au 現(xiàn)在發(fā)現(xiàn)，Cr功率增加后IV測(cè)試漏電流較大，Cr功率降低后性能可以，但是結(jié)合性較差 親們，幫幫忙啊~為啥Cr功率增加后IV測(cè)試漏電流會(huì)變大？？？ |
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perry_ping 
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2樓2015-07-28 13:35:13
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