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磁控濺射鍍的膜比較粗糙怎么辦？ 已有1人參與
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直流反應(yīng)磁控濺射 ， 缺氧氧化鈦靶材，功率200w（電壓480v），濺射壓強(qiáng) 1Pa，O2：20sccm Ar2：40SCCM 基底FTO，濺射2小時(shí)， 鍍上鎢電極直接看沒什么問(wèn)題，挺光滑的，但是顯微鏡下看就粗糙了，請(qǐng)各位大神看下怎么破。 點(diǎn)焊上去，上電極就和下電極穿通了，測(cè)得的電阻特別小。 (一個(gè)是100倍，另一個(gè)是200倍) 100xda.jpg 200xda.jpg |
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 薄膜制備與特性 |
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2樓2015-08-03 18:03:05
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3樓2015-08-04 10:00:42
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