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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 微米和納米 » 學術討論 » 請教關于PL峰擬合的問題
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[交流]
請教關于PL峰擬合的問題 已有1人參與
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我是做氮化鎵材料的，在文獻中，多數(shù)是用高斯線型擬合PL譜峰，而用洛倫茲線型擬合的非常少；我的粗淺的認識是：在半導體材料中，高斯線型對應的是激子或其他偶極子的多普勒展寬，而洛倫茲對應的是自然展寬和碰撞（散射）展寬。 1.在光激發(fā)的半導體中，特別是低溫下，速度分布導致的多普勒展寬應該不是主要展寬機制，為什么文獻中多采用對應的高斯線型，是否還有其他意義？ 2.在半導體中，如果考慮混合展寬，去做精細的擬合，可否用簡單pseudo-voigt function去擬合，還是必須得用卷積形式的voigt線型函數(shù)？ |
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2樓2016-04-10 15:16:37
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