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[求助]
制備石墨烯量子點(diǎn)為什么要先還原GO，再氧化？
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RT。GSs were obtained by thermal deoxidization of GO sheets in a tube furnace at 200–300 8C for 2 h with a heating rate of 5 8C min1 in a nitrogen atmosphere. GSs (0.05 g) were oxidized in concentrated H2SO4 (10 mL) and HNO3 (30 mL) for 15–20 h under mild ultrasonication (500 W, 40 kHz). The mixture was then diluted with deionized (DI) water (250 mL) and filtered through a 0.22-mm microporous membrane to remove the acids. Purified oxidized GSs (0.2 g) were re-dispersed in DI water (40 mL) and the pH was tuned to 8 with NaOH. The suspension was transferred to a poly(tetrafluoroethylene) (Teflon)-lined autoclave (50 mL) and heated at 200 8C for 10 h. 如上，先還原的目的是什么，我可以直接用GO來(lái)做（不還原）嗎？ |
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月牙兒的微笑: 金幣-50, 屏蔽內(nèi)容, 違規(guī)存檔, 本版不允許留廣告貼及鏈接 2015-12-02 19:30:12
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2樓2015-09-05 00:37:01
Joe_lee
金蟲(chóng) (小有名氣)
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- 專業(yè): 半導(dǎo)體光電子器件
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可能是要做成石墨烯量子點(diǎn)，所以要還原吧。你現(xiàn)在用這個(gè)水熱法做出量子點(diǎn)沒(méi)？ 發(fā)自小木蟲(chóng)Android客戶端 |
3樓2015-11-29 18:15:42
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