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xuzhixiao鐵桿木蟲 (著名寫手)
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到底什么是low dose TEM? 已有2人參與
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對于有機小分子和聚合物晶體,用HRTEM 和 SAED對其晶體結構表征的時候,需要注意什么? 文獻中我經(jīng)?吹絃ow dose TEM 這種說法,到底需要做些什么處理,才會減少電子束對于樣品的破壞 |
透射電鏡 |

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低劑量TEM或最小劑量TEM通常在設備上有特定的按鈕或操作方法 原理上一般是偏轉(zhuǎn)電子束到樣品感興趣區(qū)域的附近完成合軸對焦,然后偏轉(zhuǎn)回感興趣區(qū)域直接拍攝照片;或者用效弱的束流合軸對焦,用正常束流拍照,從而將感興趣區(qū)域的曝光時間降到最低。 另外采用更靈敏的相機,有時候也稱Low dose,也能減少曝光時間,從而減少樣品損傷。 如果不用Low dose技術,采用冷場發(fā)射槍、低電壓、小束流、適當鍍碳、使用低溫樣品桿等等,都可能減少輻照損傷,依樣品或設備條件選擇。 |
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蝕刻常用于SEM表征,TEM的話,更多的是用染色。 你提到的也許是指蝕刻復型吧?先用溶劑或氧化劑或其他方法做蝕刻,然后在蝕刻出形貌的樣品表面蒸鍍碳層或金屬層,漂下鍍層,將鍍層放到銅網(wǎng)上做TEM,鍍層上能看到蝕刻后樣品表面形貌的“影子”。個人認為,由于SEM分辨率的提高和對不導電樣品的接受,蝕刻復型技術應該可以淘汰了。(可能除了用于生物樣品的冷凍蝕刻復型以外) 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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