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藍(lán)天白云3760鐵蟲 (小有名氣)
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[求助]
上轉(zhuǎn)換 材料表面修飾 (氨基修飾TEOS與APTMS) 已有1人參與
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各位大神,我想用制備的UCNP和納米金發(fā)生FRET,光譜重疊與材料電位條件都已經(jīng)具備,就是兩者的距離需要在有效范圍內(nèi)(1-10nm),但是我用氨基修飾材料后發(fā)現(xiàn)修飾的厚度太大了,有十幾納米了 TEOS的添加量可以影響硅殼的厚度,如果我不用TEOS,直接用APTMS,可以使得材料表面具有氨基并且水溶性好么? 但是很多文獻(xiàn)都是用 TEOS 與 APTMS,究其機(jī)理,望各位大神不吝賜教! |
新蟲 (初入文壇)
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