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硅納米基地的圖形轉(zhuǎn)移（翻膜）問題。 已有2人參與
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| 以前我們組是用PMMA溶液轉(zhuǎn)移（翻膜）微米級(jí)的硅片表面（互補(bǔ)）圖形�，F(xiàn)在我做了個(gè)納米級(jí)的腐蝕。發(fā)現(xiàn)轉(zhuǎn)移不了了。黏附的過于緊密。是否該用別的材料PDMS來轉(zhuǎn)移。能轉(zhuǎn)移得了嗎？需不需對(duì)硅做疏水處理，對(duì)圖形轉(zhuǎn)移有什么影響嗎？ |
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yswyx 
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2樓2015-10-21 17:02:21
bluesky7810
鐵蟲 (初入文壇)
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【答案】應(yīng)助回帖
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我想用光刻和干法蝕刻的方法來制作微橋，其中有一步驟表面處理是在金薄膜上面放teflong來確保薄膜不被熱的KOH溶液腐蝕，請(qǐng)問您是怎么將teflong轉(zhuǎn)移到薄膜上呢？ xw_ustb@126.com，我郵箱，希望和您深入探討 |
3樓2015-11-06 11:10:07
yswyx
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4樓2015-11-06 12:03:23
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