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通過FI-IR判斷不同氧化硅表面羥基含量的相對大小 已有2人參與
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樓主將兩種氧化硅材料KIT-6和G-6做了紅外表征，結(jié)果如附件所示。 根據(jù)文獻(xiàn)：3660cm-1附近的峰為氧化硅表面羥基通過氫鍵作用所產(chǎn)生的締合羥基，3747cm-1附近的峰為氧化硅表面的自由硅羥基。 我的理解：由于在Si-O-Si （1087, 802, 574, 462cm-1）的峰強(qiáng)度一致的情況下，由于G-6在3660cm-1和3747cm-1，特別是3660cm-1處的強(qiáng)度要高于KIT-6，那么是不是可以說明對比與KIT-6而言，G-6的表面是不是含有更多的表面羥基？ 對此問題已經(jīng)糾結(jié)了很久，非常盼望大家能給我一點(diǎn)建議，關(guān)于1）我的觀點(diǎn)是否正確 2）如果不正確的話，我應(yīng)該做其他的什么工作（譬如表征）來驗(yàn)證G-6上具有更多表面羥基？ 歡迎大家指點(diǎn)一二，謝謝！ FT-IR.jpg |
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樓主測表面羥基的時(shí)候是否對表面進(jìn)行了脫水處理，看你的1600多一點(diǎn)的地方峰很明顯，不知道是否是水。如果是水的話結(jié)論就不能輕易的下了。材料不同吸水性不同。建議一百多度左右脫物理吸附水，抽真空三到四小時(shí)。再進(jìn)行比較 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
4樓2016-02-02 11:53:51
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2樓2015-11-25 09:33:03
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樓主你好： 不知樓主問題解決了嗎？對照圖譜，-OH的出峰位的確很明顯，但不排除SIO2表面自身-OH，還有游離水分子的—OH振動(dòng)，我們使用原位紅外做過類似實(shí)驗(yàn)，先高溫處理后N2吃掃降溫，經(jīng)高真空脫附，N2吹掃，不斷切換氣體吹掃，在3600cm-1仍有峰出現(xiàn)，有可能來自于氣相中-OH， 另外，對于氧化物表明-OH的富集或者脫除都有哪些辦法還請樓主多多指教  順祝春節(jié)快樂 |
3樓2016-02-02 01:28:45
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