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small421新蟲 (初入文壇)
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[求助]
直流磁控濺射制備金屬薄膜，薄膜中氧含量較高 已有2人參與
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| 采用直流磁控濺射制備金屬薄膜，直徑30mm的小靶，制備的薄膜中一直含有氧，氧含量大于20at%。設(shè)備極限真空可以10-6Pa，Ar氣也是5個(gè)9的高純Ar氣。由于設(shè)備限制，沉積前Si片為濺射清洗，但先在上面鍍了幾十nm的金層，之后再鍍膜的。求各位大神賜教，謝謝！ |
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 薄膜制備與特性 |
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已經(jīng)有3人回復(fù)
dwysd
木蟲 (著名寫手)
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- 專業(yè): 半導(dǎo)體材料
4樓2015-11-18 10:45:05
small421
新蟲 (初入文壇)
- 應(yīng)助: 0 (幼兒園)
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- 專業(yè): 金屬材料表面科學(xué)與工程
2樓2015-11-18 08:50:34
muxiao-chong
木蟲 (正式寫手)
爐火純青
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- 專業(yè): 等離子體物理
3樓2015-11-18 08:53:23
5樓2015-11-18 15:56:54
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