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zju2015新蟲(chóng) (初入文壇)
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[求助]
鍍膜和涂光刻膠的順序問(wèn)題 已有3人參與
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在硅基底上做金屬薄膜電阻， 順序A：先在硅基底上涂光刻膠，然后曝光，顯影，最后鍍膜，去膠 順序B：先在硅基底上鍍金屬膜，然后涂光刻膠，曝光，顯影，最后刻蝕，去膠 A比B少了刻蝕步驟，是不是A做出來(lái)的效果不如B好�。空�(qǐng)問(wèn)有沒(méi)有采用順序A的？ |
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dorrnm
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我想請(qǐng)教一下fab里的lift off工藝，一般做什么的時(shí)候會(huì)用？是不是有什么地方是先沉積再刻蝕工藝無(wú)法取代的？ 發(fā)自小木蟲(chóng)Android客戶端 |
5樓2015-11-24 18:04:10
dorrnm
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【答案】應(yīng)助回帖
★ ★
感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
zju2015: 金幣+2 2015-11-24 15:21:19
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a是lift off工藝，學(xué)校用的多，優(yōu)點(diǎn)是省了一步干法刻蝕 b是一般fab用的產(chǎn)品工藝，因?yàn)閘ift off帶膠鍍膜，會(huì)污染膜腔，而這種方法比較干凈 發(fā)自小木蟲(chóng)Android客戶端 |
2樓2015-11-24 08:40:11
reninhat
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3樓2015-11-24 08:57:51
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4樓2015-11-24 15:22:00
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