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[求助]
進行XPS測試，刻蝕之后，氧化物峰相對于單質(zhì)峰的位置變化了 已有2人參與
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采用的是Ge襯底，在上面濺射了一層La2O3，退火以后，界面處會被氧化，形成LaGeOx。如下圖中最右邊的峰為Ge襯底峰，中間的峰為LaGeOx。圖1是表面的XPS，而圖2 是刻蝕100s后的XPS，明顯觀察到LaGeOx和Ge襯底的結(jié)合能差從2.66下降到了2.35。另外做的在Ge上淀積Y2O3的樣品也觀察到相似現(xiàn)象。刻蝕后對氧化物的相對位置會有影響的么？那豈不是很難通過氧化峰相對于單質(zhì)峰的位置來判斷氧化態(tài)？ 1.png 2.png |
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- 請問XPS哪里可以進行表面刻蝕
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感謝參與，應助指數(shù) +1
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2樓2016-01-22 09:21:46
3樓2016-01-22 10:45:46
匿名
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4樓2016-01-25 16:51:45
cuiyuanyuan
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5樓2017-03-22 09:25:57
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6樓2017-03-22 12:35:31
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