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tmacweiwei新蟲 (小有名氣)
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[求助]
關于總能計算
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各位蟲友: 最近剛剛學習vasp, 在做過渡金屬氧化物磁性材料的 GGA+U 的總能計算,參數(shù)都是根據(jù)手冊設置的,但是弛豫提示成功后還是有以下幾個疑問 1:馳豫的總能能否直接使用,是否需要作靜態(tài)自洽計算或者非自洽計算? 2:如果初始結構優(yōu)化時參數(shù)設的比較低比如E- cut, 能否通過靜態(tài)計算提高E- cut來獲得準確的能量?K點呢? 非常感謝。。 3:并且第一個電子步總是不收斂,但是第一個離子步開始后就好了,最后也能收斂,這樣結果可信嗎? |
專家顧問 (著名寫手)
Ab Initio Amateur
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專家經(jīng)驗: +224 |
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1、建議額外做自洽,原因如下: (1)、計算過程晶格其實略有變化,理論上截斷能以及KPOINTS應當做一次檢驗; (2)、弛豫過程除了第一步每一步的電子步初猜都是上一步外推外推而來,重新自洽可能不同; (3)、某些半導體優(yōu)化結構通常會使用展寬,能量可能有偏差; 2、能量和KPOINTS都是如此,對于結構優(yōu)化而言最好通過收斂性測試,如果計算結果能量和力的偏差比結構優(yōu)化收斂標準這樣的結構優(yōu)化可能無意義,沒準導致結構優(yōu)化難以收斂;之后使用比這個再高的精度我不反對; 3、重新自洽(離子弛豫的參數(shù)即可)并且把force和stress輸出看看,看看電子步是不是仍然能夠收斂,以及輸出的force和stress是否能夠落在設定的收斂標準內(nèi)。個人經(jīng)驗覺得并不是很可靠,如果第一步計算的密度不對,之后產(chǎn)生的force和stress不對,也有1(2)的問題。 |

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