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[求助]
急急急��！AAO 模板法電沉積納米線
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本人在用AAO模板法沉積Au/CdSe金屬半導(dǎo)體多段納米線中， 實(shí)驗(yàn)中采用雙槽法，即Au和CdSe溶液分別置于兩個(gè)燒杯中，交替更換溶液進(jìn)行沉積。 沉積CdSe納米線的條件：電解液的濃度為0.3mol/L CdSO4，3mmol/L SeO2以及0.25 mol/L H2SO4， 沉積電位-0.7V，CdSe納米線的長度可有沉積的時(shí)間控制。 沉積Au納米線的沉積條件：電解液的濃度為100mM/L的HAuCl4和30g/L的H3BO3，沉積電位0.2V， 磁力攪拌的轉(zhuǎn)速為1200轉(zhuǎn)每分鐘，沉積長度可按我們的需求控制沉積時(shí)間。 在單獨(dú)沉積Au和CdSe時(shí)，能得到較好的納米線，但是當(dāng)他們進(jìn)行交替復(fù)合是， 得到的多段納米線與實(shí)驗(yàn)設(shè)定相差較大，有點(diǎn)甚至得不到多段的形貌，求原因��！ |
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2樓2016-03-11 14:43:05
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