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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 微米和納米 » 微納加工 » 磁控濺射時加負偏壓對薄膜結晶度的影響
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[求助]
磁控濺射時加負偏壓對薄膜結晶度的影響 已有2人參與
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本菇?jīng)鍪褂肅ZTS靶材磁控濺射CZTS時，發(fā)現(xiàn)濺射后的CZTS薄膜結晶度很差，晶粒度特別小，老板讓我下次濺射的時候加上一定的負偏壓試試，不知道這個負偏壓對濺射過程有哪些影響，能不能提高濺射薄膜的結晶度，多謝各位大俠啦~ 大恩不言謝，小女子直接  薄膜表面形貌.jpg |
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增加負偏壓可以增加離化率，同時增加離子撞擊到基材表面的能量，能量增加了就可以促進晶粒的形核長大，使得結晶更加完整，不過最好還是提高一下沉積溫度更明顯一些 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
52樓2016-07-18 10:06:22
chenjin
鐵桿木蟲 (著名寫手)
- 應助: 3 (幼兒園)
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- 散金: 133
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- 專業(yè): 凝聚態(tài)物性 II ：電子結構
2樓2016-03-25 21:44:27
3樓2016-03-25 22:50:47
4樓2016-03-26 09:34:49
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