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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 功能材料 » 功能薄膜 » 磁控鍍膜 靶材表面出現(xiàn)火花
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meihaijuan新蟲 (初入文壇)
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[交流]
磁控鍍膜 靶材表面出現(xiàn)火花
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請教各位大神： 在磁控鍍膜TiN的時候，設置參數(shù)有，真空度5*10-3 pa，工作氣壓0.8 pa，溫度100℃，偏壓100V，功率300W。 1、轟擊前，氬氣流量20 sccm，真空計顯示0.14 pa，偏壓800V，打開磁控電源，功率300W，將高閥關小，使氣壓 升高到1.0 pa以上才可以正常起輝鍍膜，此時真空計顯示讀數(shù)為起輝前的兩倍，即2 pa以上。所以一旦起輝后，迅速將高閥 開到最大，使壓強降低到最小，但只能降到0.8 pa。 2、轟擊結束后，偏壓降到100V，氬氣流量20 sccm，氮氣流量2 sccm，真空計顯示0.15 pa，此時將高閥關小，工作氣壓 必須調(diào)到2 pa以上才能正常起輝鍍膜，此時真空計顯示讀數(shù)為起輝前的兩倍，即4 pa以上。而起輝后，避免靶中毒，迅速將高閥 開到最大，使壓強降低到最小，但只能降到0.8 pa。 3、在起輝后進行正常鍍膜的過程中，發(fā)現(xiàn)真空計讀數(shù)從0.8 pa到0.9 pa之間略微變化，靶材表面不斷地有小顆粒的火星溢出來， 每個10分鐘左右，磁控電源就斷開了，這時又開始升高氣壓到2 pa以上才能起輝，然后迅速將氣壓調(diào)至最低0.8 pa，就這樣來來回回 調(diào)整氣壓參數(shù)來鍍膜。 4、備注：鍍膜前靶材表面已用砂紙擦亮，氬氣和氮氣流量比，已經(jīng)多次試驗優(yōu)化出來的鍍膜參數(shù)。 請問這個不穩(wěn)定的鍍膜現(xiàn)象是什么原因導致的，又改如何解決，請各位高手多多指點，謝謝！ |
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4樓2016-04-11 19:39:39
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小木蟲: 金幣+0.5, 給個紅包，謝謝回帖
小木蟲: 金幣+0.5, 給個紅包，謝謝回帖
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濺射電源是用RF還是DC? 如果是DC, 靶表面氮化物多了就容易有火花. 若是使用RF, 可能是暗區(qū)(dark space)太大或太小. 或是陽極的沉積物多了. 要清一清. |
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meihaijuan2樓2016-04-10 23:35:22
meihaijuan
新蟲 (初入文壇)
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3樓2016-04-10 23:37:35
baiyulong_
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5樓2016-04-11 20:09:28
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