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分子印跡聚合物聚合過程 已有1人參與
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| 大家好,本人研一,剛開始接觸分子印記聚合物。用5,7-二氧甲基香豆素作為虛擬模板,MAA為單體(Y有阻聚劑),溶劑是乙腈,室溫攪拌12h。然后加入磁,磁上接有RAFT試劑,加入EGDMA,AIBN,通氮,65℃聚合24h,最終產(chǎn)物掃透射電鏡沒有看到印跡層。不知道問題出在哪里 沒請各位朋友幫幫忙 |
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