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[求助]
高手指點(diǎn)：關(guān)于二層二維材料優(yōu)化問(wèn)題，體系能量隨層間距的變化 已有1人參與
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高手指點(diǎn)：關(guān)于二層二維材料優(yōu)化問(wèn)題， 體系能量隨層間距的變化，尋找體系最低能量時(shí) ISIF該怎么設(shè)置？ 在vasp優(yōu)化時(shí)，如果設(shè)置ISIF=2 ,我發(fā)現(xiàn)不同的層間距進(jìn)行優(yōu)化 ，最終優(yōu)化成相同的間距。我該怎么做？？？ 例如 石墨烯和MoS2 |
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3樓2016-11-03 12:59:51
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valenhou001
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"體系能量隨層間距的變化，尋找體系最低能量時(shí) ISIF該怎么設(shè)置？" ISIF=2。 另外POSCAR里，設(shè)置Selective dynamics，如果原子層是放在xy平面內(nèi)，那每個(gè)原子坐標(biāo)后設(shè)置 T T F，即限制z方向的移動(dòng)，而允許與原子在xy平面內(nèi)移動(dòng)。 |
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園中園5樓2016-11-05 08:37:14
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