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[求助]
光阻涂布晶片內(nèi)外區(qū)域厚度均一性 已有2人參與
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我們公司做芯片制程的，涂布光阻玻璃時，把光阻劑滴在晶片中心，通過旋轉(zhuǎn)離心力的方式使光阻劑全面覆蓋在整個晶片，但是用此方法做，晶片邊緣的光阻劑比中心的厚30％，電性差異大，請問如何才能使整個晶片的內(nèi)外區(qū)域光阻玻璃的厚度一致？請各位大神賜教。 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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易木草
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【答案】應(yīng)助回帖
感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
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對于 TEL 的Track 機臺，都可以通過調(diào)整 程式 來調(diào)整 光阻 涂布的 profile. 一般都是在主轉(zhuǎn)速 部分 前加入 pre-spin 步驟。一般都比主轉(zhuǎn)速大。 然后通過調(diào)整該步驟的的加速度，持續(xù)時間等等來調(diào)整 profile. 程式有足夠的工藝窗口調(diào)整光阻均勻度，也可以調(diào)為 周邊厚或者周邊薄。 除此以外光阻的 dispense rate ，dispense time, 溫度都會產(chǎn)生直接影響。 |
2樓2017-08-24 11:27:01
3樓2017-08-24 17:26:10
zirenfly
木蟲 (小有名氣)
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4樓2017-08-25 21:44:37
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