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yuh1984木蟲 (著名寫手)
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[交流]
【求助】磁控濺射鍍膜的影響因素！
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請教大蝦關(guān)于磁控濺射鍍膜的影響因素！例如：生長功率，生長壓強，本體壓強，靶基距。究竟這些通過影響什么來影響薄膜生長的。還有就是靶材材料究竟是以何種形式打到薄膜上的，是原子還是離子團還是材料不同結(jié)果不一樣。 我在百度查過，但是感覺不是很詳細。 請大蝦們以親身實驗告訴小弟，或者給點資料也行。 |
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yuh1984(金幣+5,VIP+0):非常感謝！ 4-17 08:26
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這個影響很大了。濺射功率、濺射氣壓、靶基距和背地真空度基本上都是通過改變沉積速率來影響薄膜的結(jié)構(gòu)，進而影響性能的。 簡單來說，濺射氣壓對沉積速率的影響是非單調(diào)的，即存在著一個極大值。氣壓過大（散射多）或過�。婋x少）都會造成沉積速率的下降。而濺射功率、靶基距和背地真空度的影響則是單調(diào)的。即功率越大、靶基距越小、背地真空度越高，則速率越大。 但沉積速率對薄膜的結(jié)構(gòu)和性能的影響則也是非單調(diào)的。過慢（疏松）或過快（缺陷）都會使薄膜的結(jié)構(gòu)變差，進而影響性能。 所以，做磁控濺射，一定要做大量的實驗，從而找出最佳的沉積條件。  |
2樓2009-04-16 23:09:59
ufoer
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3樓2009-04-16 23:13:03
4樓2009-04-17 00:42:40
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