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蘭and大銅蟲 (初入文壇)
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[求助]
光刻膠問題
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請問,我要用剝離工藝在硅基片上做一層厚度為2微米,半徑為300微米的金屬膜,周圍是硬化的光刻膠AZ5214,中間是上面所說大小的孔洞,之后用磁控濺射做金屬薄膜,這樣的話邊緣部分的光刻膠會不會因為孔洞過大而變形?之后影響金屬膜的的邊緣質(zhì)量?因為沒見過有做這種厚度和面積比這么小的器件的相關(guān)文獻(xiàn),請大神指導(dǎo) @hwweven 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
金蟲 (正式寫手)
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