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[交流]
【求助】為什么磁控濺射裝備以前能起輝而現(xiàn)在不能起輝 已有9人參與
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| 我用磁控濺射制備薄膜，以前用一直都很正常，幾天沒用，后來一用發(fā)現(xiàn)在以前的條件下不能起輝（工藝條件都是和以前一樣），不知是什么原因造成，不知有哪位能幫忙指點一下，萬分感謝�。�！ |
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7樓2010-05-07 21:48:47
jsszwutao
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2樓2010-05-03 18:49:22
zhangwj
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3樓2010-05-03 19:34:55
subject
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- 性別: GG
- 專業(yè): 材料，半導體
4樓2010-05-05 18:36:11
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