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futurelife銀蟲 (小有名氣)
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[交流]
【求助】求助:磁控濺射問題 已有17人參與
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| 今天在我用磁控濺射直流濺射Ni靶的時候發(fā)現(xiàn)靶材能起輝,但電流電壓加到一定值時就加不上去了,而且同一電流下,電壓要比以前大很多,請問問題主要出在哪了?非常感謝 |
精細陶瓷 |

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銀蟲 (小有名氣)
| 呵呵,謝謝大家回復(fù)!剛開始的時候,我也初步認定是Ni靶被氧化的事,因為每次試完就發(fā)現(xiàn)Ni靶除了被Ar離子濺射的那部分環(huán)外,其余地方都成焦黃色,測了一下成分,焦黃部分含氧,電阻也相對較大,可能就是這層氧化物導(dǎo)致荷電效應(yīng),于是我們改用射頻靶,能起輝,但由于我們射頻靶顯示功率和反射功率的表盤出現(xiàn)問題,所以就沒法驗證了,但這氧氣從哪來呢?后來一位老師指點,說很可能是Ni靶太厚把磁場屏蔽了,能起輝很可能只是強電場所致,因此那焦黃部分也就可以做個解釋,但我們想著不可能啊,以前就是這個厚度,而且還用的好好的,現(xiàn)在為什么就不可以了,無論如何,死馬當活馬醫(yī)吧,我們就把Ni靶又分成兩塊,每塊1mm厚,結(jié)果這么一試,的確工作正常了。因此暫時可歸結(jié)為Ni靶太厚,把磁場屏蔽了,但還是有點想不通,為什么以前2mm厚就工作正常,同是Ni靶,換了一個就工作不正常了?也說不定是儀器發(fā)飆了~~~~~~~~總之,感謝大家! |
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