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【求助】多孔氧化鋁電沉積Ag 已有4人參與
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本人現(xiàn)在以多孔陽(yáng)極氧化鋁為模板，在氧化鋁孔道內(nèi)沉積金屬Ag。當(dāng)孔徑》60nm的時(shí)候可以金屬可以沉積入孔道，但是生長(zhǎng)不均勻，氧化鋁表面很容易優(yōu)先沉積Ag，堵塞孔道。當(dāng)孔徑30nm時(shí)，金屬都是在表面沉積，不能進(jìn)入孔道。沉積溶液為AgNO3和硼酸。正在學(xué)習(xí)電化學(xué)方面的知識(shí)，望各位不吝賜教！ 另外，問(wèn)題二，以AgNO3和硼酸為電解液，三電極系統(tǒng)，工作電極為pt電極時(shí)，Pt電極板上沉積很均勻，沉積層很致密；但是以Al作為電極時(shí)，Al板上為什么不能形成均勻的Ag膜，而是隨即的區(qū)域絮狀沉積，水可以沖掉。 問(wèn)題上，當(dāng)以Pt為工作電極，甘汞做參比電極，，以AgNO3和硼酸為電解液時(shí)；在-1和1V內(nèi)做循環(huán)伏安法，為什么曲線上沒(méi)有氧化還原峰，而且一下循環(huán)內(nèi)的沉積曲線有交叉。交叉點(diǎn)是是什么意思。 |
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