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[交流]
【求助】多孔氧化鋁電沉積Ag 已有4人參與
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本人現(xiàn)在以多孔陽極氧化鋁為模板,在氧化鋁孔道內(nèi)沉積金屬Ag。當(dāng)孔徑》60nm的時(shí)候可以金屬可以沉積入孔道,但是生長不均勻,氧化鋁表面很容易優(yōu)先沉積Ag,堵塞孔道。當(dāng)孔徑30nm時(shí),金屬都是在表面沉積,不能進(jìn)入孔道。沉積溶液為AgNO3和硼酸。正在學(xué)習(xí)電化學(xué)方面的知識(shí),望各位不吝賜教! 另外,問題二,以AgNO3和硼酸為電解液,三電極系統(tǒng),工作電極為pt電極時(shí),Pt電極板上沉積很均勻,沉積層很致密;但是以Al作為電極時(shí),Al板上為什么不能形成均勻的Ag膜,而是隨即的區(qū)域絮狀沉積,水可以沖掉。 問題上,當(dāng)以Pt為工作電極,甘汞做參比電極,,以AgNO3和硼酸為電解液時(shí);在-1和1V內(nèi)做循環(huán)伏安法,為什么曲線上沒有氧化還原峰,而且一下循環(huán)內(nèi)的沉積曲線有交叉。交叉點(diǎn)是是什么意思。 |
新蟲 (正式寫手)
銀蟲 (小有名氣)

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