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[交流]
【交流】做厚膜,粉末化較嚴重 已有3人參與
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| 最近用熱蒸發(fā)方法沉積化合物半導體多晶膜,厚膜,厚度在um級別,但是現(xiàn)在的結果是表面粉末化較嚴重。但是與基片接觸的很薄部分結晶很好。有沒有大蟲做過類似的,或遇到類似的情況。小弟急切想交流,盡快弄清其原因與激勵。! |

木蟲 (著名寫手)
格格


木蟲 (著名寫手)
格格

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提高真空度是主要的,襯底要平整和堅實;蛘吒挠脼R射鍍膜。 本文來自: 小木蟲論壇 http://www.gaoyang168.com/bbs/viewthread.php?tid=2397519&fpage=3 |
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