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bingmou金蟲 (著名寫手)
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[交流]
【求助】空位形成能計(jì)算的討論 已有7人參與
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到底應(yīng)該怎么計(jì)算空位形成能呢? stractor在這里(http://www.gaoyang168.com/bbs/viewthread.php?tid=1728484&fpage=0&view=&highlight=&page=2)曾經(jīng)說過: 這樣計(jì)算形成能: 設(shè)E1為完整晶格的能量,E2為有一個(gè)空位的晶格的能量,E3為挖走這個(gè)Al原子的能量,這形成能 E=(E2+E3)-E1. 對E3的處理不同研究者會給出不同的能量,有的是給出FccAl晶格中一個(gè)Al原子的能量,有的給出是原子狀態(tài)的能量,有的還會考慮其它環(huán)境因素而給出另外的E3表達(dá)式(Phys. Rev. B 80, 184110 (2009))。 而這個(gè)E3的確有很多中處理方法,例如第三種其實(shí)就是這里(http://www.materialssimulation.com/node/258)所采用的化學(xué)勢的方法;第二種方法就是侯老師在他的手冊中提到的采用單原子的方法,用VASP計(jì)算的同學(xué)都應(yīng)該很熟悉。第一種是比較特殊的,采用所謂的最穩(wěn)定晶體結(jié)構(gòu)的方法。 但是我覺得這后面兩個(gè)種都有點(diǎn)問題 首先空位形成應(yīng)該是這樣的一個(gè)過程:晶體中的空位是在不斷形成又同時(shí)消失的,原子有可能跳入間隙位而產(chǎn)生了空位,也有可能是位錯(cuò)而產(chǎn)生了空位。所以這個(gè)少掉的原子還在這體系中,而不是回到單質(zhì)中(第一種情況),因?yàn)檫@時(shí)候已經(jīng)不是在生成反應(yīng)中了;也不是回到真空基態(tài)(第二種情況),那是對表面原子才有可能的。因此我覺得我們在計(jì)算空位形成能的時(shí)候必須采用第一種方法,確定這個(gè)離開位置的原子的化學(xué)勢。 但是怎么確定化學(xué)勢呢? 有人認(rèn)為應(yīng)該采用E_F=E_{defect}-\frac{N-1}{N}E_{no defect}的方式,也就是認(rèn)為\frac{E_{no defect}}{N}是這個(gè)原子的化學(xué)勢。如果對于單個(gè)成分的體系來說,這樣是可以的;但是如果是對于GaN這種體系還可以嗎?在Ga和N這兩種成分的化學(xué)勢相等嗎?我覺得應(yīng)該是可以的,因?yàn)橐粋(gè)體系穩(wěn)定的要求就是兩種元素的化學(xué)勢是相等的,所以這樣的公式是比較可靠的。這個(gè)公式來源:ab initio calculation of the formation energy of charged vacancies in germanium (感謝enola,http://www.gaoyang168.com/bbs/viewthread.php?tid=2440380) 不知各位對此有什么看法?是否同意我的看法呢? 這里討論的是自發(fā)缺陷,而非摻雜缺陷。摻雜缺陷我是認(rèn)同采用單質(zhì)(第一種情況)的做法的+適當(dāng)考慮環(huán)境的因素的。 [ Last edited by bingmou on 2010-10-20 at 15:55 ] |
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金蟲 (著名寫手)
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在黃昆《固體物理學(xué)》(1988年10月第一版 2005年11月第21次印刷)中第544頁有: 對\omgea(形成能)的含義,容易產(chǎn)生誤解,認(rèn)為它代表吧一個(gè)在格點(diǎn)上的原子從晶體中拿走所需要的能量。實(shí)際上,根據(jù)上面的討論,n改變時(shí)原子書目N沒有變,也就是說,并沒有吧原子拿出晶體以外,所以應(yīng)該把\omega理解為將晶格內(nèi)部一個(gè)格點(diǎn)上的原子放到晶體表面所需要的能量,如圖12-17所示。 這里說的移到表面的能量應(yīng)該怎么計(jì)算呢? |
金蟲 (小有名氣)
金蟲 (著名寫手)
金蟲 (著名寫手)
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先補(bǔ)充一點(diǎn)吧。 “首先空位形成應(yīng)該是這樣的一個(gè)過程:晶體中的空位是在不斷形成又同時(shí)消失的,原子有可能跳入間隙位而產(chǎn)生了空位,也有可能是位錯(cuò)而產(chǎn)生了空位。所以這個(gè)少掉的原子還在這體系中,而不是回到單質(zhì)中(第一種情況)……”。 這種情況不是孤立的空位了,而是缺陷形成的complex。bingmou你提到的這種空位-間隙對是Frenkel 缺陷。當(dāng)然從研究角度講,如果對complex感興趣,可以研究一下。 考慮化學(xué)勢就是因?yàn)槿毕莸漠a(chǎn)生受環(huán)境的影響的,比如,間隙或者空位會與其它元素結(jié)合生產(chǎn)其它相,會對化學(xué)勢有一定的限制。 至于哪些條件來限制化學(xué)勢,這很復(fù)雜,一般要考慮各種可能的相,得出一些化學(xué)勢的可能值的范圍或者定出幾個(gè)特定的點(diǎn)。 我即將做半導(dǎo)體ZnO的研究,在這方面看了一些文獻(xiàn)。推薦幾篇,大家參考一下: 1. Choi et al., "First-principles study of native defects and lanthanum impurities in NaTaO3", PHYSICAL REVIEW B 78, 014115 (2008). 2. Chris G. Van de Walle and J. Neugebauer, "First-principles calculations for defects and impurities: Applications to III-nitrides", J. Appl. Phys. 95, 3851 (2004). [ Last edited by stractor on 2010-10-20 at 23:30 ] |
金蟲 (著名寫手)
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哦,你不說我都忘了還有Schottky缺陷就是剛好對應(yīng)第一和第二種情況的缺陷了,謝謝!對于空位也還仔細(xì)考慮阿 謝謝你的文獻(xiàn),hgye推薦的文章就是你的第二篇,非常不錯(cuò)! 所謂特殊的點(diǎn)就是那幾個(gè)交界點(diǎn)是嗎?我以前也計(jì)算過缺陷的形成能,今天再計(jì)算的時(shí)候突然想到這個(gè)問題,對空位的形成重新考慮了一下 [ Last edited by bingmou on 2010-10-21 at 09:35 ] |
金蟲 (著名寫手)

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