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【求助】為什么本征半導(dǎo)體不能用于制備二極管
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為什么本征半導(dǎo)體不能用于制備二極管? 我查找了一些資料,發(fā)現(xiàn)最確切的解釋是能帶的任意彎曲將在本征半導(dǎo)體表面出現(xiàn)富集層,而不是耗盡層,因而本征半導(dǎo)體不能用于制備二極管。 但是,為什么能帶的彎曲會在本征半導(dǎo)體表面出現(xiàn)富集層,而不是耗盡層呢?而能帶的彎曲能在非本征半導(dǎo)體表面出現(xiàn)耗盡層?能帶的彎曲對于本征半導(dǎo)體、非本征半導(dǎo)體出現(xiàn)這樣的差別,又應(yīng)該怎么理解呢? 其中,僅僅按照論文中的實(shí)際器件,具體是指本征半導(dǎo)體和金屬不能形成肖特基二極管。 希望,哪位牛人指點(diǎn)一下?最好能告訴我在具體哪一本書的哪些頁能找到相關(guān)的解釋?我用讀秀學(xué)術(shù)搜索和google搜索,都沒有找到需要的東西,可能是我的搜索能力還很缺乏。 謝謝大家! 請大家不要將金屬與半導(dǎo)體的接觸相混淆!澳軒У娜我鈴澢鷮⒃诒菊靼雽(dǎo)體表面出現(xiàn)富集層,而不是耗盡層,因而本征半導(dǎo)體不能用于制備二極管!边@一說法,并沒有任何前提條件,也就是不管你的功函數(shù)怎么樣,這一結(jié)論都成立。 我有個(gè)新的想法,不知道能否解釋這個(gè)現(xiàn)象。 本征半導(dǎo)體,或者近似本征的半導(dǎo)體,其多數(shù)載流子濃度與少數(shù)載流子濃度接近,多數(shù)載流子濃度較低。 一個(gè)近似本征導(dǎo)電的n型半導(dǎo)體,其與金屬接觸,且金屬的功函數(shù)大于半導(dǎo)體的功函數(shù)。兩者相接觸,半導(dǎo)體中的電子將向金屬流動,使金屬表面帶負(fù)電,半導(dǎo)體表面帶正電,從而使得金屬與半導(dǎo)體的費(fèi)米能級逐漸接近,直到金屬與半導(dǎo)體的費(fèi)米能級相同。近似本征導(dǎo)電的n型半導(dǎo)體其電子濃度低,即使半導(dǎo)體中的電子全跑到金屬中,仍不能使金屬與半導(dǎo)體的費(fèi)米能級相同,從而導(dǎo)致半導(dǎo)體內(nèi)部的空穴也向界面移動,以減少半導(dǎo)體的費(fèi)米能級,從而導(dǎo)致與金屬接觸的半導(dǎo)體近表面空穴濃度很高,富集空穴。所以能帶的任意彎曲將在本征半導(dǎo)體表面出現(xiàn)富集層,而不是耗盡層。 [ Last edited by luolin on 2011-2-23 at 17:10 ] |
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